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当前位置:首页> 项目展示 脉冲射频辉光放电光谱仪
产品名称:脉冲射频辉光放电光谱仪
产品型号:GD-OES
产品品牌:HORIBA Scientific

HORIBA Scientific研发的脉冲射频辉光放电光谱仪可以用于薄/厚膜中的深度剖析:元素的浓度、变化趋势以及镀层厚度,它的测量深度可以从表面几纳米达到150微米以上。同时,脉冲射频辉光放电光谱仪还具备很好的深度分辨率,可达1nm以下。这使得大家在进行薄膜分析时,可以很清晰地看到每一层元素的变化及界面的信息。这将有助于我们获取更多样品信息,从而改进生产工艺、提高产品质量等。

如今,脉冲射频辉光放电光谱仪已被广泛应用于各个研发、分析及生产领域,如纳米尺度及纳米尺度以上镀层的新材料发展、涂漆车体上腐蚀的起源研究、稀有金属的成分评估、工业上监控光伏器件的生产、硬盘或LED的生产控制以及锂电池改进等。

应用领域

Pulsed RF GD-OES

脉冲射频辉光放电光谱仪不仅可对表面/深度进行剖析,同时也可做成分分析。它对固体材料,如金属、金属合金镀层、半导体、有机镀层、玻璃等中所有的元素都有很高的灵敏度,甚至是气体元素也可进行分析。

 掺杂硅光伏
掺杂硅光伏
PET镀膜
PET镀膜
石英上的SiOx

   石英上的SiOx

作为新兴的表面分析技术,辉光放电光谱仪凭借其独特的功能和特点,可以与XPS和SEM有很好的互补。

新型应用领域

Depth Profile Analysis of PV cells by RF GD
太阳能光伏

Depth Profile Analysis of Li batteries by RF GDOES
锂电池

Depth Profile Analysis of materials by RF GDOES
腐蚀